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专利详情
低硼、低磷高品质工业硅产业化
申请号：
申请公布号：
申请日：
申请公布日：
2017-01-17
申请（专利权）人：
BI342474915
专利代理机构：
分类号：
专利介绍
目前，国内去除工业硅中杂质B、P的主要方式是通过控制原料瑰石以及还原剂中的B、P杂质含量，并结合精炼过程中吹气、造渣的手段或采用电子束熔炼的工艺进行硼、磷杂质的降控，虽然采用这样的工艺，国内多家硅冶炼厂已制备出低硼、磷高品质工业硅，但是其在成本上耗费太大，很不划算。我公司采用对熔融态的工业硅产品进行熔渣+吹气炉外精炼的方式控制工业硅产品中的B、P杂质含量，不但提高了工业硅产品质量，而且还大大降低了生产成本。
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